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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro
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PICOSUN原子层沉积设备ALD
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三维原子层沉积系统 ALD
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原子层沉积(ALD)PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版Picosun
PICOSUN原子层沉积系统ALDR-200基础版(PICOSUN™ALDR-200Standard)名称:原子层沉积系统产地:芬兰Picosun简介Picosun是一家全球公司,总部位于芬兰的
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用存储电容电介质
所谓的原子层沉积技术,是指通过将气相前驱体交替脉冲通入反应室并在沉积基体表面发生气固相化学吸附反应形成薄膜的一种方法。OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统沉积系统
OpAL系统是一种直立式热原子层沉积(ALD)设备,配备等离子体选项。它能够简单地实现从热ALD升级到等离子体ALD,在一个紧凑的结构上实现等离子体和热ALD。紧凑型直立式热原子层沉积(ALD)设备
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原子层沉积(ALD)PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版Picosun
PICOSUN原子层沉积系统ALDR-200高级版(PICOSUN™ALDR-200Advanced)名称:原子层沉积系统产地:芬兰Picosun简介Picosun是一家全球公司,总部位于芬兰的
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